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极紫外光刻专利连年增长 硬件相关领域成果亮眼

来源:科技日报    时间:2021-01-11    

  韩国知识产权局发布的报告显示,过去10年来,向该局申请极紫外(EUV)光刻相关专利的韩国企业数量连年增长,其中2019年的50件申请中,韩国企业提交了40个,不完全统计2020年的申请中,韩国企业提交的部分也达到国外企业申请的两倍以上。

  韩国科学技术院研究团队参与的一项国际联合研究,开发出“非线性量子机器学习AI算法”,显示出超越需要大规模计算的现有AI技术的可能。韩国电子通信研究院和SK电信合作,开发出超低功耗NPU芯片,采用单独开关,通过每个计算单元的软件技术将AI芯片的电力消耗降低了一个数量级。

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